東京応化工業株式会社 社長の種市でございます。本日はお忙しい中、2026年12月期第2四半期決算説明会にご参加いただき、ありがとうございます。ご説明に先立ち、先月28日に発生した令和8年熊本地震で被災された方々には、心よりお見舞い申し上げます。一早い復興に向けて、弊社も微力ながらご支援申し上げる所存でございます。なお、この度の地震による弊社阿蘇工場及び阿蘇熊本サイトへの被害はなく、生産は通常通り継続しております。それでは、お手元にございます資料に基づき、決算関連の説明を始めます。目次に沿って、2026年12月期第2四半期サマリーと業績、そして通期業績予想の順にご説明した後に、企業価値向上に向けた成長戦略についてご説明申し上げます。まず、2026年12月期第2四半期サマリーについて本スライドにてご説明いたします。売上高はデータセンター向けAIサーバーの需要拡大により、前年同期比280億円増収の1,396億円、営業利益は増収及び為替効果により前年同期比90億円増益の288億円となりました。今年度の業績予想は、下期における足元の市況や当社製品の採用状況などを勘案し、前年度から大幅な増収増益となる売上高2,910億円、営業利益606億円を見込んでおり、3期連続で過去最高を更新する見込みです。また、通期業績の営業利益とEBITDAは、TOK中期計画2027の目標数値を上回る見込みです。株主還元については、安定的かつ継続的な利益還元を実施するために定めた純資産配当率DOE 4.0%を目処とする配当方針の元、中間配当を40円といたしました。年間配当は9期連続増配の80円を予想しております。それでは、今年度上期の実績からご説明いたします。売上高は先ほど述べました通りでございますが、そのうちエレクトロニクス機能材料は生成AI向けの需要増加などを背景に、EUVレジスト、KrFレジスト、及び後工程関連材料の売上が好調に推移したことにより、前年同期比160億円増加の741億円となりました。また、高純度化学薬品は顧客の新工場稼働に伴う需要拡大などにより、前年同期比110億円増加の630億円となりました。営業利益は経費の増加があったものの、増収及び為替効果により先ほど述べました通りの増益となりました。親会社株主に帰属する中間純利益は、営業利益の増加により前年同期比67億円増益の204億円となりました。続きまして、エレクトロニクス機能材料の種類別売上についてご説明いたします。エレクトロニクス機能材料全体の売上高は前年同期比+27.5%となりました。種類別では、半導体前工程用フォトレジストが前年同期比+30%になった他、半導体後工程関連材料が+25%、ディスプレイ材料その他が+15%と、それぞれ大幅に増加いたしました。EUV、ArFレジストで構成される先端材料は前年同期比+35%となり、内訳のEUVレジストは生成AI向けの需要増加やシェア拡大により+65%となりました。KrFレジストはロジック向け、メモリー向けともに好調に推移し+30%、g線、i線レジストで構成されるレガシー材料は+15%となりました。また、半導体後工程関連材料については主にWHS材料が好調に推移いたしました。続いて、営業利益の増減要因内訳をご説明いたします。今年度上期の営業利益は前年度上期の198億円を比較対象とし、90億円の増益要因についてご説明いたします。初めに、売上増加による売上増減、プロダクトミックス等の改善が+153億円の増益要因となりました。次に、為替変動と売価調整の影響については10億円増益要因となりました。また、経費については原材料費及び人件費等の増加により73億円の減益要因となりました。なお、中東情勢の影響については製品売価への価格転嫁の努力も進めておりますものの、第2四半期においては差し引きで20億円の減益要因となりました。営業外損益、特別損益についてはご覧の通りでございます。続いて、2026年12月期業績予想についてご説明いたします。通期の業績予想については、売上高は先ほどサマリーで述べました通りで、前年度比増収増益、また期初の予想を大幅に上回り、過去最高の業績を予想しております。背景には、世界的な生成AI関連需要の継続的な拡大に加え、当社製品の採用状況が好調であることなどが挙げられます。内訳は、エレクトロニクス機能材料は前年比302億円増収の1,550億円、高純度化学薬品は前年比215億円増収の1,310億円を予想しております。また、通期業績の営業利益及びEBITDAは、TOK中期計画2027の目標を1年前倒しで達成する見込みです。営業利益は中期計画目標の580億円を26億円上回る606億円、EBITDAは中期計画目標の720億円を2億円上回る722億円となる見通しです。続きまして、エレクトロニクス機能材料の種類別売上予想についてご説明いたします。まず、エレクトロニクス機能材料全体の売上高は前年比+24.3%を見込んでおります。種類別では、半導体前工程用フォトレジストが前年比+20%、半導体後工程関連材料が+45%、ディスプレイ材料その他が+10%を予想しています。EUV、ArFレジストで構成される先端材料は前年比+25%を予想しており、そのうちEUVレジストは前年比+50%を予想しております。KrFレジストは下期も好調に推移し前年比+20%、レガシー材料は+10%と予想しています。また、半導体後工程関連材料はWHS材料を中心に大幅な伸長が見込まれます。続いて、営業利益の増減内訳をご説明いたします。前年度の一時的な増益要因を除いた453億円を比較対象とし、153億円の増益要因についてご説明いたします。初めに、売上増加及びプロダクトミックス等の改善が+300億円の増益要因となることを見込んでおります。また、下期に1ドル155円予想と設定した為替変動と売価調整の影響については、26億円の増益要因となります。経費については、将来の事業展開を見据えた人員確保等による人件費の増加や、積極的な設備投資の実施に伴う減価償却費の増加、並びに中東情勢の影響による原材料価格の上昇などにより、173億円の減益要因となることを見込んでおります。なお、通期における中東情勢の影響は45億円の減益要因として織り込んでおります。このグラフは、半期ごとの売上実績と予想を表したものです。エレクトロニクス機能材料、高純度化学薬品の売上高はともに上期に過去最高の売上高を達成し、下期も引き続きこの好調な流れが継続する見込みであり、上期と比較しエレクトロニクス機能材料は+9.0%、高純度化学薬品は+7.9%の成長を見込んでおります。次に、設備投資、減価償却費、研究開発費についてご説明いたします。設備投資は、TOK中期計画2027で計画した内容に基づき概ね順調に進捗しております。減価償却費等は、昨年2月に買収したドイツのマイクロレジストテクノロジー社に関わるのれん償却費を含んでおります。研究開発費は、最先端材料分野での高度化するニーズに的確に応えるため、積極的にリソースを投下し続ける計画です。最後に、株主還元についてご説明いたします。中間配当、期末配当予想については先ほどサマリーで述べました通りでございます。当社は、純資産配当率に基づく配当方針と成長投資とキャッシュバランスを勘案した弾力的な自社株買いの2つの方針を堅持し、当社の成長と株主の皆様への利益還元の両立を図ってまいります。続きまして、企業価値向上に向けた成長戦略についてご説明いたします。こちらのスライドでは、AIによる産業革命が当社事業にもたらす成長機会について示しております。半導体の進化には当社の微細化、積層化、高純度化の技術が貢献しており、半導体の進化がAIによる産業革命を誘発し、その結果AIデータセンターが社会インフラとして整備されつつあると当社は見ています。そして、この流れはさらに継続するとともに、生成されたデータが私たちの身の回りのデータと連携を始めることでエッジAIの進化が始まり、新たな技術領域が生まれてくると予想しています。こうした技術革新を背景に多様な半導体材料に対する需要の拡大が見込まれ、フォトレジスト、パッケージ周辺材料、光学材料、高純度化学薬品、表面改質剤の5つの強力なポートフォリオ構築を目指す当社には、大きなビジネスチャンスになると期待しています。これは、AI需要の主要デバイスであるGPUの模式図です。左上の図に示しているように、生成AI向けGPUの製造プロセスにおいては当社の様々な製品が採用されています。加えて、右上の図に示しているようにAIサーバー市場の更なる成長が予想されています。当社はこうした市場拡大を成長機会と捉え、主力製品である前工程用フォトレジストの拡大に加え、後工程関連材料や高純度化学薬品などの拡大を図っております。このうち、後工程関連材料の1つであるWHS材料については、2024年から2027年にかけて約700%の大幅な成長を見込んでいます。WHS材料は先端パッケージ工程において使われる材料であり、右上にWHS材料が関わる簡易製造プロセスを記載しておりますが、ウエハーを薄化後の破損を防ぐためにキャリアガラスへの貼り付けに使用される接着剤と、一連の処理が終了した後に接着剤を洗浄するシンナーなどから構成されております。AI半導体の高性能化に伴い、先端パッケージ技術の重要性はますます高まっており、WHS材料に対する需要も大きく拡大すると見ており、当社はこうした市場成長を着実に取り込んでまいります。半導体材料の需要拡大を着実に取り込むため、当社では生産能力の増強や供給態勢の強化に向けた戦略的な設備投資を進めています。こちらのスライドは、TOK中期計画2027において進行中の主な設備投資によって期待されるEBITDAの推移を示したイメージ図です。熊本県の阿蘇熊本サイトと韓国の仁川工場の新検査棟は、今年上期に稼働を開始いたしました。また、今年3月には福島県の郡山市に新たに工場用地を取得し、キャパシティアップに向けた戦略的投資を模索しています。なお、郡山のフォトレジスト製造棟並びに韓国の子会社の平沢工場の稼働開始時期については、顧客需要に応えるため半年程度前倒しし、それぞれ今年度下半期、来年度上半期とする計画です。また、中東情勢をはじめとする地政学リスクなど不確実性が高まる状況下においても、顧客が求める高品質な製品をタイムリーかつ安定的に供給することがこれまで以上に重要になっています。当社は、研究開発から生産、物流に至るまでDXを積極的に取り入れ、品質、生産性、供給安定性の向上を図ってまいります。これにより事業の持続的な成長を支える経営基盤を強化してまいります。こうした経営基盤の強化に加え、稼ぐ力を向上させるために生産性向上、収益性向上、及び人的資本投資の各種施策を実行しており、その結果として右側のグラフに示しますように従業員1人当たりEBITDAは着実に上昇しております。最後に、本日「統合レポート2026」を発行したことを付け加えさせていただきます。本レポートでは当社グループのあらゆる活動の原動力である人的資本への投資をはじめ、中長期的な成長に向けた取り組みに焦点を当て、持続的な価値創造の考え方や取り組みをご紹介しております。注目コンテンツは右側に列記しておりますので、是非当社ホームページよりご覧ください。以上を持ちまして、2026年12月期第2四半期の業績、2026年12月期の通期業績予想、並びに企業価値向上に向けた成長戦略の説明を終了いたします。ご清聴ありがとうございました。 The transcription is complete.

The audio recording concludes with President Taneichi's closing remarks (「ご清聴ありがとうございました。」) , and there is no further speech or continuation on the recording.