東京応化工業株式会社 社長の種市でございます。本日はお忙しい中、2025年12月期決算説明会にご参加いただき、ありがとうございます。それでは、お手元にございます資料に基づき、決算関連の説明を始めます。目次に沿って、2025年12月期サマリー、2025年12月期業績、2026年12月期業績予想の順にご説明した後に、本日定量目標の見直しを行いましたTOK中期計画2027についてご説明いたします。まず、2025年12月期サマリーについて本スライドでご説明いたします。2025年12月期は生成AI関連の需要増加等、エレクトロニクス市場の拡大を捉え、売上高、営業利益、経常利益、親会社株主に帰属する当期純利益におきまして、2期連続で当社の歴史を更新いたしました。次に、2026年12月期につきましては、引き続き生成AI関連の旺盛な需要と顧客の新工場稼働開始などから、先端半導体向け材料の伸長を見込んでおります。2026年度の想定為替レートにつきましては、1ドル150円としております。このような外部環境や当社グループ製品の採用状況により、増収増益を予想しており、3期連続で過去最高を更新する見込みです。株主還元につきましては、安定的かつ継続的な利益還元を実施するために定めた純資産配当率、DOE 4.0%を目途とする配当方針のもと、2025年度の期末配当は37円を予定しております。これにより年間配当は8期連続増配の72円を予定しております。また、今期の配当につきましてもDOE 4.0%を維持し、中間配当、期末配当それぞれ40円を予定しており、年間配当は前期よりも8円増配の80円を予想しております。それでは、2025年度12月期の実績からご説明いたします。ご覧の通り売上高は前年比17.9%増加の2,370億円となりました。これは生成AI関連の需要拡大やパソコンの買い替え需要が堅調に推移したことにより、エレクトロニクス機能材料および高純度化学薬品がともに好調に推移したことが主な要因です。エレクトロニクス機能材料は生成AI向け先端半導体の需要増加等を背景に、レガシー材料から最先端のEUVレジストおよび後工程関連材料の売上が好調に推移したことにより、前年比16%増加の1,247億円となりました。高純度化学薬品は顧客の稼働率上昇や新工場稼働による需要拡大により、前年比19.6%増加の1,094億円となりました。営業利益は高付加価値製品の販売増加により、前年比43.2%増加の473億円と大幅な増益となりました。なお、開発関連材料等の在庫認識による一過性の増益要因を含んでおります。親会社株主に帰属する当期純利益は前年比47%増加の333億円となりました。なお、装置事業譲渡に伴う特別利益を第1四半期に計上したことは以前ご報告申し上げた通りでございます。続きまして、エレクトロニクス機能材料の種類別売上についてご説明いたします。エレクトロニクス機能材料全体の売上高は前年比+16%となりました。種類別では、半導体前工程用フォトレジスト、半導体後工程関連材料、ディスプレイ材料、そのほかのいずれにおきましても前年比+15%増加いたしました。ArF、EUVレジストで構成される先端材料は前年比+20%となり、中でもEUVレジストは需要増加やシェア拡大により前年比+50%伸びました。KrFレジストはロジック向け、メモリー向けともに堅調に推移し+15%、g線、i線レジストで構成されるレガシー材料は+15%となっています。後工程関連材料はパッケージ材料が+15%、WHS材料においては+40%と大きく成長しています。続いて営業利益の増減内訳をご説明いたします。2025年12月期の営業利益473億円と前年度の331億円を比較対象とし、142億円の増益要因についてご説明いたします。初めに先端半導体向け材料を中心とした売上増加、プロダクトミックス等の改善が+193億円の増益要因となりました。次に為替変動と売価調整の影響については16億円の減益要因となりましたが、経費について一部原材料価格の下落がありましたものの、事業拡大に伴う人件費を中心とした固定費の増加により55億円の減益要因となりました。また、業績概要でご説明いたしました通り、開発関連材料等の在庫認識による一過性の増益要因が20億円ありました。このグラフは四半期ごとの売上高と営業利益の推移を示したグラフです。2025年12月期につきましても、オレンジ色のエレクトロニクス機能材料、水色の高純度化学薬品ともに半導体市場拡大の追い風を捉え、さらに先端レジストのグローバルシェアナンバーワンに向けた取り組みが成果につながったこともあり、売上高は着実に伸長しております。グレーでお示ししている営業利益につきましては、第4四半期に20億円の一過性の増益要因を含んでおりますが、利益額は毎四半期ごと着実に上昇しております。設備投資、減価償却、研究開発につきましてはご覧の通りです。2025年12月期におきましては過去最高となる287億円の設備投資を実施いたしました。一部の設備投資が後ろ倒しになったことにより年間計画に対しては減少しておりますが、中期計画に対しては概ね計画通りに進捗しております。続いて、2026年12月期業績予想についてご説明いたします。まず、今期の売上高は過去最高となる前年比10.1%増加の2,610億円を予想しております。前提として引き続き生成AI関連の需要拡大に伴い、先端半導体向け前工程および後工程材料の需要が一段と高まる見通しです。加えて顧客の新工場稼働開始なども予定されていることから、前年比で大幅な増収を予想しております。売上高の内、エレクトロニクス機能材料は前年比12.3%増加の1,400億円、高純度化学薬品は前年比6%増加の1,160億円を予想しております。営業利益は過去最高となる前年比10.2%増加の522億円を予想しております。なお、前年度に発生した開発関連材料等の在庫認識による一過性の増益要因を除いた営業利益の増加率は15.6%となります。増減の内訳は後ほどご説明いたします。続きまして、エレクトロニクス機能材料の種類別売上予想についてご説明いたします。エレクトロニクス機能材料の売上高は前年比+12.3%を見込んでおります。種類別では半導体前工程用フォトレジストが前年比+10%、半導体後工程関連材料が+30%、ディスプレイ材料、その他は-5%を予想しております。ArF、EUVレジストで構成される先端材料は前年比+10%を予想しており、そのうちEUVレジストは前年比+20%を予想しております。KrFレジストは引き続き堅調に推移し、前年比+10%、レガシー材料も同じく+10%と予想しています。半導体後工程関連材料は先端パッケージ向けの需要拡大を背景として、今期も好調に推移する見込みです。中でもパッケージ材料は前年比+15%、WHS関連材料は顧客の生産能力の大幅な増加により前年比+170%を予想しています。続いて、営業利益の増減内訳をご説明いたします。2025年度の営業利益は473億円でございました。こちらは20億円分の一過性の特殊増益要因が含まれておりますので、その要因を除いた場合の分析を次のページでご説明いたします。ここでは一過性要因を除いた453億円を比較対象として増減の内訳をご説明させていただきます。初めに売上増加、プロダクトミックス等の改善が169億円の増益要因となることを見込んでおります。一方、為替変動と売価調整の影響については31億円の減益要因となり、経費については引き続き人的資本投資の増加や今期より本格稼働する大型設備投資案件の減価償却費等による固定費の増加により69億円の減益要因となることを見込んでおります。その結果、2026年の営業利益は522億円を予想しております。このグラフは半期ごとの部門別の売上実績と予想を表したものです。2026年上期は引き続き先端半導体向け材料が好調に推移すると見込んでおりますが、季節性の要因等により2025年下期と比較して売上全体としては横ばいとなるものの、下期にはエレクトロニクス機能材料、高純度化学薬品ともに過去最高の売上高を更新する見込みです。次に設備投資、減価償却費、研究開発費についてご説明いたします。今期の設備投資はTOK中期計画2027に準じて実施することとしており、更なる半導体市場拡大を見据え、過去最大の358億円を計画しております。研究開発費は最先端分野での高度化するニーズに的確に応えるため、積極的にリソースを投下し続ける計画です。最後に株主還元につきまして、中間配当、期末配当予想は冒頭のサマリーでご説明した通りでございます。当社は純資産配当率に基づく配当方針と成長投資とキャッシュバランスを勘案した弾力的な自己株式の取得の二つの株主還元方針を堅持し、当社グループの成長と株主の皆様への利益還元の両立を図ってまいります。続きまして、本日定量目標の見直しを行ったTOK中期計画2027についてご説明いたします。生成AI用半導体の需要増加を受け、当社グループの製品需要が当初の予想を上回るペースで拡大していることに加えて、当初の想定よりも円安に推移している為替動向を踏まえて、2027年度における定量目標を引き上げ、売上高2,950億円、営業利益580億円、EBITDA 720億円、ROEを14.0%といたしました。また、為替前提は1ドル135円から150円に変更いたしました。なお、定性目標および7つの重点戦略については変更はございません。こちらは2027年までの連結売上高とEBITDAマージンの推移を示したグラフでございます。TOK中期計画2027で策定した戦略を確実に推進し、主力製品のシェア拡大による市場成長を上回る売上高の伸長と成長投資によるキャッシュ創出力の強化を実現してまいります。次に製品セグメントごとの目標、戦略、および進捗についてご説明いたします。半導体用フォトレジストは2027年度の売上高成長率目標を2024年度比較+42%に変更いたしました。昨年度は生成AI用半導体を含む最先端分野での需要増加、シェア向上により売上高が伸長いたしました。引き続き技術ポートフォリオを拡大し、更なる微細化で求められるディフェクトフリーの品質管理を強化していくほか、高度な生産技術による高品質製品の安定供給による差別化を図ってまいります。各種電子材料は2027年度の売上高成長率目標を2024年度比+143%と変更いたしました。先端パッケージ技術の需要拡大によって販売が増加している中、技術トレンドの先取りによって潜在ニーズを掘り起こし、更なる顧客ベース拡大を図ってまいります。高純度化学薬品は2027年度の売上高成長率目標を2024年度比+44%と変更いたしました。顧客の新工場稼働等により販売が大幅に伸長しております。更なる需要拡大に備え、韓国で建設中の平澤工場における供給体制の構築をはじめ、グローバルでの供給体制を整備するほか、最先端デバイス製造プロセスにおける新規採用の獲得に向けても取り組みを進めてまいります。続いて、更なる微細化を実現する次世代EUVレジストの開発の取り組みについてご紹介いたします。当社グループはオングストローム世代の微細化に向けて従来の化学増幅型レジスト、通称CAR、金属酸化物レジスト、通称MORに加え、スモールモレキュラーレジスト、通称SMRと呼ばれる次世代EUVレジストの開発に取り組んでおります。それぞれのレジストは異なる強みを持っていますが、ポジ型のMORは高感度およびエッチング耐性が高く、ネガ型のSMRはパターンの均一性およびエッチング耐性が高いという特徴がございます。更なる半導体の微細化に向け、フォトレジストに求められる技術要件がますます高度化する中、これらの次世代EUVレジストの特性を最大限に引き出すことで顧客の様々なニーズに応えてまいります。研究開発投資につきましては、当社グループのコア技術の更なる高みに挑戦し、自社開発に加え、学術機関や企業との連携、さらにはM&A手法等の活用も視野に入れ、ロングランの研究開発型企業として更なる企業価値向上にチャレンジしてまいります。こちらは生成AI用のGPUにおける当社グループ製品の適用例をお示しした図になります。半導体前工程向けの材料に加え、後工程関連材料や表面改質剤など当社グループの幅広い製品ポートフォリオが採用されております。2027年に向けた製品別の売上高成長率はそれぞれお示ししている通りでございます。こちらのスライドはTOK中期計画2027において進行中の主な設備投資によって期待されるEBITDAの推移をお示ししたイメージ図になります。拡大する半導体市場において顧客の期待を上回る高品質な製品を必要なときに必要な量を必要な場所へ安定的に供給するためにこれらの戦略的投資を進めております。それぞれの投資案件をいち早く本格稼働させることに注力し、新たなキャッシュ創出力の獲得につなげてまいります。これにより2027年度にEBITDA 720億円を達成し、2030年に向けて更なる躍進にチャレンジしてまいります。当社グループは人的資本投資として4つの人材施策により従業員エンゲージメントの向上を図るとともに、企業価値の向上を実現し、その成果を従業員に還元することで更なるモチベーション向上につなげ、その好循環サイクルを創出していきたいと考えております。これからも従業員一人ひとりの幸福度の追求を起点に人的資本投資に注力してまいります。キャッシュアロケーションにつきましてはお示ししている通りであります。TOK中期計画2027の3年間で創出する累積EBITDA約1,900億円を設備投資760億円、成長投資200億円以上、株主還元280億円以上に配分投資する計画です。以上をもちまして、2025年12月期の業績、2026年12月期の業績予想並びにTOK中期計画2027定量目標の見直しに関するご報告を終了いたします。ご清聴ありがとうございました。